Natuurkundig Gezelschap te Utrecht

Jaarprogramma 2016-2017 | Vorige lezing | Volgende lezing | Home

Dinsdag 13 juni 2017
Prof.dr. W.J. van der Zande (ASML & Radboud Universiteit)

Lithografie bij 13.5 nm (EUV) ASML: uitdagingen in productie en materialen

ASML introduceert de nieuwste lithografie machines in de halfgeleider industrie. Deze machines beelden patronen die uiteindelijk chips vormen af op silicium wafers en vormen een belangrjk onderdeel in het proces van chipproductie. Verkleining van de golflengte maakt het mogelijk om kleinere details te “schrijven”. De huidige standaard is 193 nm belichtingen. De nieuwste machines produceren licht bij 13.5 nm, een grote stap voor de technologie. Het maken van EUV, transport en afbeelding vereisen de ontwikkeling van een machine volledige in vacuüm, de vervanging van lenzen door een spiegel afbeeldingssysteem en de ontwikkeling van efficiënt EUV genererend proces. In mijn verhaal zal ik de markt en de uitdagingen van ASML daarin toelichten en de aspecten van de fysica bij de productie van EUV en het transport door de zogenoemde scanner uitleggen.

Links:

Jaarprogramma 2016-2017 | Vorige lezing | Volgende lezing | Home

De vergaderingen worden gehouden in zaal Atlas, op de 1e verdieping van het Victor J. Koningsbergergebouw, De Uithof.
Het Koningsbergergebouw is alleen toegankelijk via de ingang aan de Budapestlaan, niet via (loopbruggen naar) andere gebouwen.
De aanvang is telkens om 20.00 uur, de vergaderingen duren inclusief een pauze tot uiterlijk 22.00 uur.
Voor parkeren kunt u terecht op de parkeerterreinen tegenover het Minnaertgebouw of bij het Wiskundegebouw.